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 新聞資訊
青島理工大學一教授納米制造獲美國發明專利
作者(來源):東方嘉威  發布時間:2014-07-01  瀏覽次數:779次
日前,青島理工大學收到美國專利商標局的通知:蘭紅波教授申請的專利“Method And Device For Full Wafer Nanoimprint Lithography”獲得美國發明專利授權,專利號:US8,741,199 B2。這是青島理工大學首次獲得美國發明專利授權。

  在國家自然科學基金“納米制造的基礎研究”重大研究計劃、教育部新世紀優秀人才支持計劃等項目的資助下,基于該專利,蘭紅波團隊目前已經成功開發了國內首臺具有自主知識產權4英寸整片晶圓納米壓印光刻機工程樣機,目前正在開展6英寸和m級尺度超大面積納米壓印工藝和裝備的研究。

  據介紹,大面積納米壓印光刻技術在高亮度LEDs、高清平板顯示、高效太陽能電池板、晶圓級光學器件、高密度存儲HDD、量子點、石墨烯等眾多領域具有廣闊的應用前景。
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